真空镀膜设备 主要是指真空度较高的涂层，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束延伸、PLD激光溅射沉积等多种类型。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 

真空镀膜设备 的工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜分子产生阻力，导致碰撞，使晶体粗糙无光，因此晶体必须在高真空下细腻明亮。如果真空度不高，晶体就会失去光泽，结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。现在，加上中频磁控溅射靶，在电场的作用下，膜的蒸发分子加速对靶材的轰击，溅射出大量的靶材原子，中性靶原子（或分子）沉积在基板上形成膜，解决了镀钛镀锆等过去自然蒸发无法加工的膜品种。

由于频率高、电流大，中频设备必须用冷却水冷却。当导体流动时，电流具有皮肤收集效应。电荷会聚集在导体的表面积，使导体发热。因此，导体中间采用中孔管加水冷却。

对电子在不均匀电磁场中的运动规律进行了更深入的研究，探讨了磁控溅射的更一般原理，以及磁场的横向不均匀性和对称性，这是磁约束的根本原因。磁控溅射可以说是涂层技术中最突出的成就之一。特点是溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定。

冷水功能可以控制真空涂层机的温度，以确保涂层部件的高质量。如果没有冷水机，真空涂层机就不能达到高精度、高效控制温度的目的，因为天然水和水塔散热不可避免地受到自然温度的影响，这种控制方法非常不稳定。

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